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semiconductor chip, lithography machine - SMIC、国産DUV露光装置をテスト開始!5nm製造の可能性で中国半導体産業に新局面

中国のSMICが、初の国産DUV露光装置のテストを開始。液浸技術と多重露光を組み合わせ、5nmプロセスチップ製造の可能性が浮上しています。米国の輸出規制下で、中国の半導体自給自足に向けた大きな一歩となり、世界の半導体サプライチェーンに新たな波紋を投げかける可能性があります。...

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